[发明专利]六氟化硫远程清洁等离子源无效
| 申请号： | 200510114111.6 | 申请日： | 2005-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN1782133A | 公开（公告）日： | 2006-06-07 |
| 发明（设计）人： | 崔寿永;王群华 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F4/00 | 分类号： | C23F4/00;C23F1/12;C23C16/513;H01L21/205 |
| 代理公司： | 上海新高专利商标代理有限公司 | 代理人： | 楼仙英 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种清洁一基板处理室的方法，包括引入一气体混合物至一远程等离子源，其中该气体混合物包含六氟化硫及一含氧化合物，该含氧化合物是选自由氧气及一氧化二氮所组成的群组中；将该气体混合物的一部份解离成为离子；传送这些离子进入处理室中的一处理区；提供一原位等离子；并通过与这些离子反应而清除该处理室中的沉积物。 | ||
| 搜索关键词： | 六氟化硫 远程 清洁 离子源 | ||
【主权项】：
1.一种清洁一基板处理室的方法，包含：引入一气体混合物至一远程等离子源，其中该气体混合物包含六氟化硫及氧气，其中供给至远程等离子源的电力为13kW以上；将该气体混合物的一部份解离成为离子；传送该等离子进入该处理室中的一处理区；及通过与这些离子反应而清除处理室中的沉积物。
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