[发明专利]形成氧化薄膜的方法、氧化薄膜、部件和电子设备

摘要

本发明公开了一种在由无机材料构成的基材12的表面上形成氧化薄膜3的方法。氧化薄膜3是由包含无机材料的氧化物作为其主要成分的材料而形成的。该方法包括以下步骤：制备基材12；向基材12表面上供给包含醇的处理液体，以在其上形成处理液体的液体薄膜2；通过无机材料与在液体薄膜2中的醇反应生成无机材料的氧化物；去除保留在液体薄膜2中的处理液体，以在基材12的表面上形成氧化薄膜3。此外，本发明公开了上述的氧化薄膜3、包括氧化薄膜3的部件、包括该部件的电子设备。

主权项

1.一种在由无机材料构成的基材的表面上形成氧化薄膜的方法，所述氧化薄膜是由包含无机材料的氧化物作为其主要成分的材料构成的，该方法包括以下步骤：制备基材；向基材表面上供给包含醇的处理液体，以在其上形成处理液体的液体薄膜；通过无机材料与液体薄膜中的醇反应生成无机材料的氧化物；和去除保留在液体薄膜中的处理液体，以在基材的表面上形成氧化薄膜。