[发明专利]用于电吸收调制半导体激光器高频封装的热沉无效
申请号: | 200510090643.0 | 申请日: | 2005-08-18 |
公开(公告)号: | CN1917311A | 公开(公告)日: | 2007-02-21 |
发明(设计)人: | 李宝霞;张靖;杨华;王圩 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01S5/024 | 分类号: | H01S5/024;H01L23/34;H05K7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种用于电吸收调制半导体激光器高频封装的热沉,其中包括:一电介质热沉基片;一微波传输线,该微波传输线制作在电介质热沉基片的上表面的一侧,该微波传输线在电介质热沉基片的上表面形成三个端点;一薄膜电阻,该薄膜电阻制作在电介质热沉基片的上表面,形成在微波传输线的端点的尾端;多条金属电极,该多条金属电极制作在电介质热沉基片的上表面的另一侧;一地电极,该地电极制作在电介质热沉基片的下表面,且将电介质热沉基片的下表面覆盖。 | ||
搜索关键词: | 用于 吸收 调制 半导体激光器 高频 封装 | ||
【主权项】:
1.一种用于电吸收调制半导体激光器高频封装的热沉,其特征在于,其中包括:一电介质热沉基片;一微波传输线,该微波传输线制作在电介质热沉基片的上表面的一侧,该微波传输线在电介质热沉基片的上表面形成三个端点;一薄膜电阻,该薄膜电阻制作在电介质热沉基片的上表面,形成在微波传输线的端点的尾端;多条金属电极,该多条金属电极制作在电介质热沉基片的上表面的另一侧;一地电极,该地电极制作在电介质热沉基片的下表面,且将电介质热沉基片的下表面覆盖。
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