[发明专利]一种取样光纤光栅的制作方法

摘要

一种取样光纤光栅的制作方法特征在于：使用取样周期沿着振幅掩模版的高度方向渐变而占空比不变或取样占空比沿着振幅掩模版的高度方向渐变而取样周期不变的取样振幅掩模版配合高度可控装置，在光栅制作过程中保持取样振幅掩模版与光纤的相对高度不变，制作不同光栅时调整这一相对高度，可以制作出具有不同取样周期或占空比的取样光纤光栅，也可以在光栅制作过程中使取样振幅掩模版与光纤的相对高度根据需要发生实时变化，制作出取样周期或取样占空比沿光纤轴向渐变的取样光纤光栅。与已知方法相比，它可以降低普通取样光纤光栅的制作成本，提高灵活性，也可以较为方便的制作出具有轴向渐变占空比或渐变取样周期的复杂取样光纤光栅。

主权项

1、一种取样光纤光栅的制作方法，其特征是：含有以下步骤；步骤1：根据光纤光栅制作系统的特点，设计取样振幅掩模版，并根据设计结果，在高精度线切割机上以慢走丝的方式、用金属材料制作振幅掩模版；步骤2：将振幅掩模版与高度可以自动控制的装置配合使用，放置于普通光纤光栅的制作系统中，光源发出的紫外光通过扫描平台上与光入射方向成45度角的反射镜改变方向后，依次入射到会聚透镜、取样振幅掩模版、相位掩模版和光敏光纤上，在放置振幅掩模版时，使其具有渐变取样周期或渐变占空比的方向垂直于光纤轴向，并且使振幅掩模版的平面垂直于紫外光入射的方向；步骤3：在光栅制作过程中，保持振幅掩模版与光纤轴向的相对高度不变，使扫描平台带动反射镜匀速移动，实现紫外光对光纤的扫描式曝光，紫外光通过具有周期性遮挡作用的取样振幅掩模版之后，对光纤形成具有空间周期性的曝光，制作出取样光纤光栅；或步骤4：在制作不同光栅时，对振幅掩模版与光纤轴向的相对高度进行调整，使紫外光从振幅掩模版的不同高度位置入射，获得不同的取样周期或不同的占空比，从而制作出具有不同反射峰波长间隔或反射谱包络特性的取样光纤光栅。