[发明专利]等离子处理装置与等离子处理的光检测方法有效
申请号: | 200510084674.5 | 申请日: | 2005-07-14 |
公开(公告)号: | CN1722377A | 公开(公告)日: | 2006-01-18 |
发明(设计)人: | 齐藤进;安德鲁·威克斯·库恩 | 申请(专利权)人: | 维里蒂器械公司;东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/3065 | 分类号: | H01L21/3065;H01L21/66;H01L21/00;G02F1/136;G01N21/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王英 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明的主题为一种等离子处理装置和光检测方法,该方法能够检测从多个测量位置得到的多个光学信号,并能够使用装置分析每个测量位置的状态,其中该装置具有更简化的结构的优势。干涉光L1通过光纤222并传输至分光镜部件230。等离子光L2通过光纤224并传输至分光镜部件230。分别对这些光束单独进行分光。通过对干涉光L1分光得到的干涉光光谱L1g通过第一光路226,并照射在光电转换部件240的干涉光感光区域上。通过对等离子光L2分光得到的等离子光光谱L2g通过第二光路228,并照射在光电转换部件240的等离子光感光区域上。 | ||
搜索关键词: | 等离子 处理 装置 检测 方法 | ||
【主权项】:
1.一种等离子处理装置,用于对在处理室内的处理工件进行等离子处理,包括:第一光路,用于传输干涉光,其中通过光照射位于该处理室内的处理工件,在该处理工件的多个表面反射而得到该干涉光;第二光路,用于传输在该处理室内形成的等离子所产生的等离子光;分光镜部件,用于对该干涉光和该等离子光进行分光;以及光电转换部件,具有构建为多个光电转换元件的二维阵列的光电转换元件区域,用于将来自该分光镜部件的入射光转化为电荷,以及电荷存储部件,用于存储从该光电转换元件区域转移过来的电荷,其中该光电转换部件的光电转换元件区域还包括:干涉光感光区域,用于对在该分光镜部件处分光的该干涉光感光;以及等离子光感光区域,用于对在该分光镜部件处分光的该等离子光感光,其中将由该等离子光光电转化得到的电荷群按时间划分区域,并存储在该电荷存储部件中,并且在由该等离子光光电转化得到的那些电荷群中,在一个时间区域期间产生存储在该电荷存储部件中的电荷群的该光电转换元件的行数,与在另一个时间区域期间产生存储在该电荷存储部件中的电荷群的该光电转换元件的行数不同。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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