[发明专利]显示装置的制造方法和显示装置的制造装置有效
申请号: | 200510084430.7 | 申请日: | 2005-07-15 |
公开(公告)号: | CN1722451A | 公开(公告)日: | 2006-01-18 |
发明(设计)人: | 日野辉重;田上和昭;柴田英次;小田拓嗣 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/84;H01L21/768;H01L21/28;G09F9/30;G02F1/133 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 浦柏明;叶恺东 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的目的在于提供一种可以保持蚀刻的一致性并进行高可靠性蚀刻的显示装置的制造方法和制造装置。在本发明的显示装置的制造方法中,在一对电极间产生电场,在至少在表面含有铝的下部电极(2)上的绝缘性基板(3)的表面所形成的绝缘膜上形成接触孔,其特征在于,包括:在上述下部电极(2)上,包围设置了上述绝缘性基板(3)的区域的外周部被绝缘材料所覆盖,在该状态下,在上述绝缘膜上形成接触孔的工序。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 制造 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种显示装置的制造方法,至少包括:在绝缘性基板表面形成金属图案的工序;在所述金属图案上形成绝缘膜的工序;在所述绝缘膜上形成感光性树脂图案的工序;和以所述感光性树脂膜为掩模,在所述绝缘膜上形成接触孔的工序,其特征在于:所述接触孔的形成方法是一种在相对置的一对电极间,至少在表面上含有铝的一个电极上设置了绝缘性基板后,使所述一对电极间产生电场的干法蚀刻方法,并且包括如下工序:在所述一个电极上,包围设置了所述绝缘性基板的区域的外周部,在被绝缘材料覆盖的状态下,在所述绝缘膜上形成接触孔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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