[发明专利]抛光垫整修器及其制造和循环使用方法无效
| 申请号： | 200510084125.8 | 申请日： | 2005-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN1718371A | 公开（公告）日： | 2006-01-11 |
| 发明（设计）人： | T·T·道恩;V·巴拉卡尼;K·K－T·尼甘 | 申请（专利权）人： | 应用材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/00 | 分类号： | B24B53/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵蓉民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种循环使用的抛光垫整修器，其包括基板和从其原结构位置翻转的研磨盘。翻转的研磨盘包括一暴露的研磨面，该研磨盘包括含有研磨颗粒的一未用过的研磨表面。研磨盘的结合面固定到基板上，结合面包括曾被用来整修抛光垫的用过的研磨面。本发明还提供了一种垫整修器，其具有研磨面，该面含有研磨颗粒的暴露部分，其中至少约60％的研磨颗粒的晶体结构具有基本相同的晶体对称性。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 整修 及其 制造 循环 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种循环使用的抛光垫整修器，包括：(a)一基板；和(b)一翻转的研磨盘，所述研磨盘包括：(i)一暴露的研磨面，其具有未用过的研磨表面，该研磨表面上带有研磨颗粒；和(ii)一固定到所述基板的结合面，该结合面包括曾用于整修抛光垫的一用过的研磨面。
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