[发明专利]一种由青霉素发酵液生产半合抗中间体的耦合工艺无效
| 申请号: | 200510075056.4 | 申请日: | 2005-06-08 |
| 公开(公告)号: | CN1699371A | 公开(公告)日: | 2005-11-23 |
| 发明(设计)人: | 申淑锋;常志东;刘会洲;孙兴华;安振涛;胡欣;刘吉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院过程工程研究所 |
| 主分类号: | C07D499/21 | 分类号: | C07D499/21;C07D499/10;C07D499/18;C07D501/18;C07D501/02 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种由青霉素发酵液生产半合抗中间体的耦合工艺,其工艺包括发酵液过滤、液—液—液萃取、反萃、气助溶剂萃取以及水解工序阶段等五个部分,克服了现有的生产过程中脱色、共沸结晶、过滤、干燥以及相应的溶媒回收利用处理等。此耦合工艺可以将萃取和杂质分离过程集成,提高了目标产物的选择性,简化了废水处理;反萃时青霉素水溶液粘度低,不易乳化,便于操作;针对青霉素热敏性的特点采用气助溶剂萃取技术在低温条件下可以简单、有效地脱除有机溶媒,而且单级效率可达到70%;简化了中间体生产整体的工艺流程,降低了生产成本和运行周期;收率有明显提高,由青霉素发酵滤液到青霉素待裂解液阶段收率可达83%以上。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 青霉素 发酵 生产 半合抗 中间体 耦合 工艺 | ||
【主权项】:
1、一种由青霉素发酵液生产半合抗中间体的耦合工艺,其特征在于包括发酵液过滤、液-液-液萃取、碱液反萃、气助溶剂萃取以及水解或裂解工序阶段。
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C07 有机化学
C07D 杂环化合物
C07D499-00 杂环化合物,含有4-硫杂-1-氮杂双环[3.2.0]庚烷环系,即含有下式环系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;这类环系进一步稠合,例如与含氧、含氮或含硫杂环2,3-稠合
C07D499-04 .制备
C07D499-21 .有氮原子直接连在位置6和3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-86 .只有1个除氮原子外的原子直接连在位置6,3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3连有除仅两个甲基外的取代基,并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基或氰基,直接连在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之间有双键并有3个键连杂原子至多1个键连卤素的碳原子,例如酯基和氰基,直接连在位置2的化合物
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