[发明专利]真空处理装置

摘要

本发明提供一种真空处理装置，是具备真空处理室(20)、(22)、(24)和基板搬运器(40)、和预备室(14)的立式真空处理装置(10)，其特征是，在预备室(14)内以及真空处理室(20)、(22)、(24)内设置往去路(16)和返回路(18)这两个搬送路径的同时，在真空处理室(24)内具备将基板搬运器从往去路(16)转移至返回路(18)的转移机构。

主权项

1.一种真空处理装置，是以使基板在直立状态对基板进行真空处理的真空处理装置，其特征是，包括：对所述基板进行真空处理的多个真空处理室；载置所述基板并将其搬送的基板搬运器；第一搬送路径，其设在所述真空处理室内，成为在所述多个真空处理室之间进行搬送的所述基板搬运器的往去路；第二搬送路径，其设在所述真空处理室内，成为在所述多个真空处理室之间进行搬送的所述基板搬运器的返回路；转移机构，其设在所述多个真空处理室的任意的至少一个的内部，将所述基板搬运器从所述第一搬送路径移动到所述第二搬送路径。