[发明专利]在交替相移掩模中着色局部着色的设计的系统

摘要

一种设计用于投影集成电路设计的图像的交替相移掩模的方法。第一和第二单元各包括第一相位的至少一个相移形式，以及第二相反相位的至少一个相移形式，第一和第二单元被并置以使相邻于各自的第一单元和第二单元的边缘的相移形式彼此相邻。如果第一和第二单元中的相邻相移形式之间的距离小于预定最小间隔，并且如果所述相邻相移形式相位相反，则反转第一和第二单元之一中的相移形式的相位，以使所述相邻相移形式的相位相同。如果第一和第二单元中的相邻相移形式彼此不接触，并且其距离大于预定最小间隔，则保持相移形式的相位。

主权项

1.一种设计用于投影集成电路设计的图像的交替相移掩模的方法，所述方法包括以下步骤：提供第一单元，其包括第一相位的至少一个相移形式，以及与所述第一相位相反的第二相位的至少一个相移形式，其中至少一个所述相移形式与所述第一单元的边缘相邻；提供第二单元，其包括第一相位的至少一个相移形式，以及与所述第一相位相反的第二相位的至少一个相移形式，其中至少一个所述相移形式与所述第一单元的边缘相邻；沿所述第二单元的边缘并置所述第一单元的边缘，以使相邻于所述各自的第一和第二单元的边缘的相移形式彼此相邻；确定在所述第一和第二单元中的相邻相移形式之间的任何间隔；确定在所述第一和第二单元中的相邻相移形式之间的任何相位上的差异；如果所述第一和第二单元中的相邻相移形式之间的距离小于预定最小间隔，并且如果所述相邻相移形式的相位相反，则反转所述第一和第二单元之一中的相移形式的相位，以使所述相邻相移形式的相位相同；如果所述第一和第二单元中的相邻相移形式彼此不接触，并且其距离大于预定最小间隔，则保持所述相移形式的相位；以及形成用于交替相移掩模的所述第一和第二单元的单元阵列。