[发明专利]激光绘图装置、激光绘图方法以及光掩模的制造方法

摘要

本发明提供一种激光绘图装置、激光绘图方法以及光掩模的制造方法，即使在表面部形成抗蚀膜(感光性树脂膜)的曝光对象物是大型光掩模等那样的大型物的情况下，也不降低生产率、并且对微小区域中的抗蚀膜的膜厚变动也能够设定最合适的曝光量、对含有细微图案的绘图图案也能够不受抗蚀膜膜厚变化的影响而进行良好的绘图图案的绘图的激光绘图装置。其具备：向曝光对象物照射曝光用光束的绘图头；使曝光对象物上的曝光用光束的照射位置移动的扫描单元；根据来自曝光对象物的曝光用光束的反射光束来测定抗蚀膜的膜厚的膜厚测定单元；和根据预先设定的绘图图案以及膜厚测定单元的测定结果来调制曝光用光束的强度的调制单元。

主权项

1.一种激光绘图装置，其特征在于，具备：向在表面部形成抗蚀膜的曝光对象物照射曝光用光束的绘图头；使所述曝光对象物上的所述曝光用光束的照射位置移动的扫描单元；调制所述曝光用光束的强度的调制单元；和根据来自所述曝光对象物的所述曝光用光束的反射光束来测定所述抗蚀膜膜厚的膜厚测定单元，所述调制单元根据预先设定的绘图图案和所述膜厚测定单元的测定结果，调制所述曝光用光束的强度。