[发明专利]显示装置及其制造方法有效
| 申请号： | 200510058915.9 | 申请日： | 2005-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN1673815A | 公开（公告）日： | 2005-09-28 |
| 发明（设计）人： | 海东拓生;大植荣司;贺茂尚广;木村泰一;丝贺敏彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立显示器 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133;H01L21/00;G09F9/00;H01L29/786 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 季向冈 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种显示装置及能减少制造工序的该显示装置的制造方法。该制造方法是在基板的上面形成半导体层，在上述半导体层的上面形成绝缘膜，使用覆盖第1区域并使第2区域露出的掩膜，通过上述绝缘膜对上述第2区域的半导体层进行杂质的注入；在除去了上述掩膜后，将上述第1区域和第2区域的上述绝缘膜的表面刻蚀到残留第2区域的绝缘膜程度，由此，使上述第2区域的绝缘膜膜厚比上述第1区域的绝缘膜的膜厚薄。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显示装置的制造方法，其特征在于，在基板的上面形成半导体层，在上述半导体层的上面形成绝缘膜，使用覆盖第1区域并使第2区域露出的掩膜，通过上述绝缘膜对上述第2区域的上述半导体层进行杂质的注入，在将上述掩膜除去后，对上述第1区域和第2区域的上述绝缘膜的表面进行刻蚀，刻蚀到残留上述第2区域的上述绝缘膜的程度，由此，使上述第2区域的绝缘膜的膜厚比上述第1区域的绝缘膜的膜厚薄。
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