[发明专利]一种包含量子点的光探测场效应晶体管及制备方法无效
申请号: | 200510053829.9 | 申请日: | 2005-03-11 |
公开(公告)号: | CN1832208A | 公开(公告)日: | 2006-09-13 |
发明(设计)人: | 曾宇昕;杨富华;徐萍;刘伟 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/112 | 分类号: | H01L31/112;H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种包含量子点的光探测场效应晶体管及制备方法,其特点在于:1.不同于其他光-电集成器件的横向耦合结构,本器件的结构,是将化合物半导体光探测器和金属-半导体场效应晶体管纵向集成生长在同一衬底材料上。2.在器件制备过程中,将栅极下方的砷化铟量子点有源区台面与源、漏电极区隔断开,使量子点层下方的调制掺杂导电沟道与源、漏电极连通,构成场效应器件的导电回路。本发明提出了一种纵向结构上将光探测器和金属-半导体场效应晶体管集成在一起的器件结构及制备方法,实现了光器件和电学器件的有效集成,结构简单,制备工艺简便有效,是光-电集成器件光探测器组件部分的一种更好的实现方法。 | ||
搜索关键词: | 一种 包含 量子 探测 场效应 晶体管 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种包含量子点的光探测场效应晶体管,其特征在于,为纵向多层结构:在衬底上表面顺序生长一层缓冲层,缓冲层上表面生长调制掺杂结构层,结构层上表面生长一层势垒层,再生长一层包含自组织量子点的有源层以及一层覆盖层,最后在覆盖层上生长高掺杂的欧姆接触层;在样品材料表面制备场效应晶体管结构,源区和漏区位于包含量子点的有源区台面两侧,并与有源区隔断;有源区表面制备栅电极,源区上表面制备源电极,漏区上表面制备漏电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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