[发明专利]真空成膜装置用部件及使用该部件的真空成膜装置及其觇板装置

摘要

一种真空成膜装置用部件，具有部件本体和形成于所述部件本体表面的喷镀膜。喷镀膜具有局部峰顶平均间隔S为50～150μm范围、最大谷深Rv和最大峰高Rp分别为20～70μm范围的表面粗糙度。喷镀膜具有从维氏硬度Hv30以下的Al系喷镀膜、维氏硬度Hv100以下的Cu系喷镀膜、维氏硬度Hv200以下的Ni系喷镀膜、维氏硬度Hv300以下的Ti系喷镀膜、维氏硬度Hv300以下的Mo系喷镀膜和维氏硬度Hv500以下的W系喷镀膜中选择的低硬度覆膜。采用这种真空成膜装置用部件，能在成膜工序中稳定而有效地抑制粘附在部件上的成膜材料的剥离，并能大幅度削减装置清洗及部件交换等的次数。觇板具有同样的喷镀膜。真空成膜装置将上述真空成膜装置用部件适用于被成膜试料保持部、成膜源保持部、防粘附部件等。

主权项

1、一种真空成膜装置用部件，它是一种真空成膜装置的构件，其特征在于，包括部件本体和喷镀膜，所述喷镀膜形成于所述部件本体的表面上，具有从维氏硬度Hv30以下的Al系喷镀膜、维氏硬度Hv100以下的Cu系喷镀膜、维氏硬度Hv200以下的Ni系喷镀膜、维氏硬度Hv300以下的Ti系喷镀膜、维氏硬度Hv300以下的Mo系喷镀膜和维氏硬度Hv500以下的W系喷镀膜中选择的至少一种低硬度覆膜，所述喷镀膜的维氏硬度如下获得：将所述喷镀的表面进行研磨以使之平坦化，在平坦化的面上以200g的负荷用金刚石压头推压30秒以测定维氏硬度，取5次测定的平均值。