[发明专利]低温渗铬涂层及其制备方法和应用无效

专利信息
申请号: 200510047407.0 申请日: 2005-10-14
公开(公告)号: CN1948554A 公开(公告)日: 2007-04-18
发明(设计)人: 彭晓;张海媛;王福会 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C23C30/00 分类号: C23C30/00;C23C28/00;C25D5/00;C23C8/62
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 代理人: 张志伟
地址: 110016辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开一种涂层制备技术,具体地说是两步法低温渗铬涂层及其制备方法和应用。渗铬涂层成分由渗入的铬和来自复合镀层金属M及少量稀土氧化物组成,其中稀土氧化物RexOy为Re=Ce、Y、La等,按质量份数计,渗铬涂层中表面层中铬含量为50~90份,其余为M和微量稀土元素氧化物,其中M来自M-RexOy复合镀层。制备过程如下:以金属Ni、Fe或Co、碳钢或低合金钢为基材,在基材上采用复合电镀方法制得纳米晶的M-RexOy复合镀层,然后在600℃~800℃扩散渗铬,获得稀土氧化物改性的渗铬涂层。本发明使传统渗铬工艺的温度由1000℃以上降低为600℃~800℃,且工艺简单,易于推广,涂层在高温下可热生长保护性的致密Cr2O3氧化膜,抗氧化好。
搜索关键词: 低温 涂层 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种低温渗铬涂层,其特征在于:其成分由渗入的铬和来自复合镀层金属M及稀土氧化物组成,其中M为Ni、Fe或Co,稀土氧化物RexOy为CeO2、Y2O3 或La2O3;按质量份数计,渗铬涂层中表面层铬含量为50~90份,稀土氧化物4~8份,其余为M。
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