[发明专利]发光二极管荧光粉涂敷新方法无效

专利信息
申请号: 200510036062.9 申请日: 2005-07-16
公开(公告)号: CN1897312A 公开(公告)日: 2007-01-17
发明(设计)人: 陈立有 申请(专利权)人: 广州市先力光电科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 江门嘉权专利商标事务所有限公司 代理人: 喻新学
地址: 510530广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种发光二极管荧光粉涂敷新方法;采用真空镀膜技术将荧光粉直接镀到半导体晶片的表面,主要包括选用晶片、清洗、固晶焊线、装片及添加荧光粉、抽真空、镀膜和封装等工艺过程;本方法可通过成膜时间精密控制膜层厚度,成膜均匀、一致性佳,有利于提高发光二极管的发光均匀度,而且荧光粉薄膜较薄,对光的散射、吸收较小,有利于提高光通量和光强的输出,同时采用本方法获得的镀膜晶片降低了荧光体内部因反复光吸收产生的热量,提高晶片的稳定性,减少温度升高所导致的颜色漂移,也降低荧光粉的温度猝灭效应的发生几率,有效地提高半导体发光器件的使用寿命。
搜索关键词: 发光二极管 荧光粉 新方法
【主权项】:
1.一种发光二极管荧光粉涂敷新方法,其特征在于采用真空镀膜技术将荧光粉直接镀到半导体晶片的表面。
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