[发明专利]钽阻挡层用化学机械抛光浆料有效
| 申请号： | 200510030856.4 | 申请日： | 2005-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN1955248A | 公开（公告）日： | 2007-05-02 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;宋伟红;顾元;徐春;宋鹰 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种钽阻挡层用化学机械抛光浆料，其包括研磨颗粒、有机膦酸、四氮唑类化合物和载体。本发明的化学机械抛光浆料可以防止金属材料的局部和整体腐蚀，减少衬底表面污染物，降低研磨颗粒的含量，在不同金属与氧化物之间可获得合适的抛光选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 阻挡 化学 机械抛光 浆料 | ||
【主权项】：
1、一种钽阻挡层用化学机械抛光浆料，其包括研磨颗粒、有机膦酸、四氮唑类化合物和载体。
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