[发明专利]铁电氧化物介质反射膜片及制备方法无效

专利信息
申请号: 200510030796.6 申请日: 2005-10-27
公开(公告)号: CN1763618A 公开(公告)日: 2006-04-26
发明(设计)人: 胡古今;戴宁 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G02F1/19 分类号: G02F1/19
代理公司: 上海智信专利代理有限公司 代理人: 郭英
地址: 20008*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种铁电氧化物介质反射膜片及制备方法,该反射膜片依次由衬底,镍酸镧缓冲层,铁电氧化物介质反射膜层组成。其特征在于:衬底为玻璃或石英。该方法包括:I.玻璃或石英衬底的特殊处理——清洗、预热处理和在其中一个表面上形成一层导电氧化物镍酸镧缓冲层;II.镀膜溶液的配制,反射膜层的制备。重要的是在镀膜溶液中引入高分子聚合物,利用相分离技术,在一次制膜过程中自发形成双层结构。各种表征手段的测试分析结果说明在玻璃或石英衬底上生长的反射膜层具有结晶度高、良好的铁电特性和一维光子晶体性能。
搜索关键词: 氧化物 介质 反射 膜片 制备 方法
【主权项】:
1.一种铁电氧化物介质反射膜片包括:衬底(1),在衬底(1)上依次置有镍酸镧缓冲层(2),铁电氧化物介质反射膜层(3),其特征在于:所说的衬底(1)为玻璃或石英材料,所说的铁电氧化物介质反射膜层(3)是由多个周期,每个周期有二层不同折射率的铁电氧化物薄膜交替排列而成。
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