[发明专利]一种投影式光刻机中硅片平台高度控制系统及方法有效
| 申请号： | 200510029043.3 | 申请日： | 2005-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN1920668A | 公开（公告）日： | 2007-02-28 |
| 发明（设计）人： | 伍强;朱骏 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司;上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种投影式光刻机中硅片平台高度控制系统及方法。一种投影式光刻机中硅片平台高度控制系统，包括埋在投影式光刻机硅片平台中和中央控制器相连接的高度控制驱动器阵列，中央控制器通过信号传输系统和光刻机主控制系统相连接。投影式光刻机中硅片平台高度控制方法，包括以下步骤：第一步，测量光刻机系统误差；第二步，将系统误差数据传输到光刻机主控制系统；第三步，算出高度控制驱动器阵列的补偿信号；第四步，光刻机主控制系统将驱动器阵列补偿信号的调节指令发给中央控制器；第五步，中央控制器发出电压信号；第六步，各个高度控制驱动器使得硅片产生变形。本发明可以降低或者消除在整个曝光区域上的对焦偏差，满足更小的对焦深度的光刻工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 光刻 硅片 平台 高度 控制系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种投影式光刻机中硅片平台高度控制系统，其特征在于，它包括埋在投影式光刻机硅片平台中和中央控制器相连接的高度控制驱动器阵列，中央控制器通过信号传输系统和光刻机主控制系统相连接。
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