[发明专利]提高含铜取向硅钢电磁性能和底层质量的生产方法有效
申请号: | 200510020003.2 | 申请日: | 2005-12-13 |
公开(公告)号: | CN1786248A | 公开(公告)日: | 2006-06-14 |
发明(设计)人: | 应宏;邓崎琳;毛炯辉;徐慧英;张翔;黄煊官;钟光明;曹阳;方泽民;骆忠汉;傅连春;曾武;鲁军;石生德;周涛;梁宗仁;王雄奎;裴大荣;肖敏;魏京桥 | 申请(专利权)人: | 武汉钢铁(集团)公司 |
主分类号: | C22C38/16 | 分类号: | C22C38/16;C21D8/12;C21D11/00 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人: | 钟锋;段姣姣 |
地址: | 43008*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高含铜取向硅钢板电磁性能和底层质量的生产方法。其解决目前在主要以氮化铝及铜作为抑制剂的取向硅钢的工艺中存在的磁性较差及底层质量较差并不稳定的问题。解决的技术措施:提高含铜取向硅钢板电磁性能和底层质量的生产方法,其步骤:将厚度为1.8~2.8mm的硅钢板酸洗后进行第一次冷轧,轧至厚度0.50~0.70mm;进行中间完全脱碳退火,硅钢板的氧含量在300~750ppm;进行第二次冷轧并至成品厚度;在400~595℃、分压比小于0.61的氮氢气氛下回复退火;涂布以氧化镁为主要成分的退火隔离剂;在低于1200℃温度的条件下进行退火;开卷后进行拉伸平整退火,同时涂布绝缘涂层。 | ||
搜索关键词: | 提高 取向 硅钢 电磁 性能 底层 质量 生产 方法 | ||
【主权项】:
1、提高含铜取向硅钢电磁性能和底层质量的生产方法,其步骤:1)将组分及重量百分比为:0.015~0.050%C、2.5~4.0%Si、0.10~0.30%Mn、0.010~0.035%Als、0.0070~0.0120%N、0.30~0.60%Cu和≤0.015%S,余为Fe及不可避免的元素为主要成分、厚度为1.8~2.8mm的硅钢板,酸洗后进行第一次冷轧,轧至厚度为0.50~0.70mm;2)在810~880℃温度、湿式氮氢气氛及退火炉内的分压比为0.20~0.50条件下进行中间完全脱碳退火,使硅钢板的含碳量降到30ppm以下,氧含量控制在300~750ppm范围内;3)进行第二次冷轧,轧至成品所需厚度;4)在400~595℃、分压比小于0.61的氮氢气氛条件下进行5分钟以内的回复退火;5)涂布以氧化镁为主要成分的退火隔离剂;6)在低于1200℃温度下进行退火;7)开卷后进行拉伸平整退火,同时涂布绝缘涂层。
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