[发明专利]提高含铜取向硅钢电磁性能和底层质量的生产方法有效
| 申请号： | 200510020003.2 | 申请日： | 2005-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN1786248A | 公开（公告）日： | 2006-06-14 |
| 发明（设计）人： | 应宏;邓崎琳;毛炯辉;徐慧英;张翔;黄煊官;钟光明;曹阳;方泽民;骆忠汉;傅连春;曾武;鲁军;石生德;周涛;梁宗仁;王雄奎;裴大荣;肖敏;魏京桥 | 申请（专利权）人： | 武汉钢铁(集团)公司 |
| 主分类号： | C22C38/16 | 分类号： | C22C38/16;C21D8/12;C21D11/00 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人： | 钟锋;段姣姣 |
| 地址： | 43008*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 提高 取向 硅钢 电磁 性能 底层 质量 生产 方法 | ||
【权利要求书】：
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