[发明专利]用于MEMS制造的薄膜先驱堆叠无效
| 申请号： | 200480020729.X | 申请日： | 2004-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN1849547A | 公开（公告）日： | 2006-10-18 |
| 发明（设计）人： | 马克·W·迈尔斯;布莱恩·J·加利;克拉伦斯·徐 | 申请（专利权）人： | IDC公司 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王允方;刘国伟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于产生MEMS(Micro－electromechanical systems)装置的先驱薄膜堆叠(precursorfilmstack)。所述先驱薄膜堆叠包含：一载体基板、一形成于所述载体基板上的第一层、一形成于所述第一层上的一绝缘体材料的第二层和一形成于所述第二层上的一牺牲材料的第三层。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 mems 制造 薄膜 先驱 堆叠 | ||
【主权项】：
1.一种制造一MEMS装置的方法，所述方法包含：加工一预先制造的薄膜堆叠以界定所述MEMS装置。
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