[发明专利]等离子体均匀性

摘要

实现一种更加均匀的等离子体工艺用于利用具有均匀间隔槽的静电屏使用在处理表面上产生非对称等离子体密度图案的感耦等离子体源处理处理对象。有槽的静电屏按照补偿非对称等离子体密度图案从而在处理表面提供调整的等离子体密度图案的方式调整。介绍一种更加均匀的径向等离子体工艺，其中按照在处理表面上产生调整的径向变化特性的方式构造静电屏装置取代给定的静电屏。该感耦等离子体源限定一对称轴，且静电屏装置构造为包括延伸通过关于该对称轴的半径范围的形状。

主权项

1.一种用于在处理室中产生更均匀的等离子体和处理的方法，用于利用具有均匀间隔的槽的有槽静电屏，使用在处理表面处产生非对称等离子体密度图案的感耦等离子体源，在反应室内处理处理对象的处理表面，所述方法包括步骤：按照补偿所述非对称等离子体密度图案从而在所述处理表面提供调整的等离子体密度图案的方式调整所述有槽静电屏。