[发明专利]用内部参考斑点减少微阵列变异无效

专利信息
申请号: 200480009265.2 申请日: 2004-05-14
公开(公告)号: CN1771333A 公开(公告)日: 2006-05-10
发明(设计)人: 帕拉梅斯瓦拉·梅达·雷迪;库尔特·布里尔哈特;菲尔杜斯·法欧齐;丹尼儿·A·基斯 申请(专利权)人: 贝克曼考尔特公司
主分类号: C12Q1/68 分类号: C12Q1/68;G01N33/543
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 杨青;樊卫民
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供使用内部参考斑点以减少微阵列分析变异的系统。用于定量样品中多个靶配体的微阵列装置包括具有多个测试区的固相支持物;固定到测试区上的多个不同靶捕获配体;和至少一个固定到测试区上的参考捕获配体。所述参考捕获配体捕获通常不存在于样品中的参考配体。
搜索关键词: 内部 参考 斑点 减少 阵列 变异
【主权项】:
1.用于检测和定量样品中多个靶配体的微阵列装置,所述微阵列包含:a)具有多个测试区的固相支持物;b)固定到测试区上的多个不同靶捕获配体;和c)至少一个固定到测试区的参考捕获配体,所述参考捕获配体被选择以捕获正常情况下不存在于样品中的参考配体,所述参考捕获配体位于各测试区基本上相同位置。
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