[发明专利]干蚀刻方法及信息记录媒体无效
| 申请号： | 200480004017.9 | 申请日： | 2004-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN1748295A | 公开（公告）日： | 2006-03-15 |
| 发明（设计）人： | 大川秀一;服部一博;高井充 | 申请（专利权）人： | TDK股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/3065 | 分类号： | H01L21/3065;G11B5/84;H01F41/32 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 高龙鑫;王玉双 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种干蚀刻方法，能够把被加工层加工成微细图案且周缘部有棱角的形状，用这种干蚀刻方法沿相当于蚀刻图案的轮廓的第一掩膜层(20)的周缘部形成向磁性薄膜层(被加工层)(18)的对面侧突出的突部(21)。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 方法 信息 记录 媒体 | ||
【主权项】：
1.一种干蚀刻方法，包括将被加工层上的掩膜层加工成规定的图案形状的掩膜层加工工序；以及用干蚀刻除去所述被加工层的露出部分并加工成所述图案形状的被加工层加工工序；其特征在于，所述掩膜层加工工序沿着相当于所述图案的轮廓的所述掩膜层的周缘部，形成向所述被加工层的对面侧突出的突部。
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