[发明专利]利用统计图像规划层析成像测量中断层位置的方法有效

专利信息
申请号: 200410103300.9 申请日: 2004-10-22
公开(公告)号: CN1650808A 公开(公告)日: 2005-08-10
发明(设计)人: 安德斯·戴尔;马丁·哈德;汉斯-彼得·霍伦巴赫;迈克·米勒;伊内斯·尼姆斯基;弗朗兹·施米特;奥利弗·施雷克;安德烈·范德库维 申请(专利权)人: 西门子公司;通用医疗公司
主分类号: A61B6/03 分类号: A61B6/03;A61B5/055;G06F17/00;//G06F159∶00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 马莹;邵亚丽
地址: 联邦德*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种利用统计图像规划层析成像测量中的断层位置的方法。在操作层析成像装置的方法和计算机程序产品中,通过显示标准对象的设计描述、在设计描述中定义标准成像区域的空间位置并且存储,来产生标准测量记录,作为标准对象的标准测量记录、标准成像区域的标准对象和参数的参考。通过获得表述对应于标准对象的检查对象特征的数据,确定检查对象特征与标准对象特征之间的几何关系,并产生特定于对象的测量记录,其中通过修改标准测量记录相对于检查对象定位成像区域,这样的标准测量记录然后被用于实际层析成像测量的断层位置规划。
搜索关键词: 利用 统计 图像 规划 层析 成像 测量 断层 位置 方法
【主权项】:
1.一种用于为层析成像系统建立标准测量记录的方法,包括以下的步骤:在操作者可以与之交互的计算机化的界面上,显示标准对象的设计描述;通过所述界面与显示的设计描述进行交互,在所述设计描述中相对于所述标准对象定义标准层析成像区域的空间位置;和产生和存储标准测量记录,该记录包括与所述标准成像区域相关的参数和指定所述标准对象的参考。
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