[发明专利]包括其中的遮蔽元件的光掩模及相关的方法与系统

摘要

一种用于利用构图辐射来构图集成电路器件的光掩模，包括：透明基板、辐射阻挡区图形、辐射阻挡区阵列和遮蔽元件阵列。透明基板具有第一和第二相对表面，而辐射阻挡区图形在透明基板的第一和/或第二表面中的至少一个上。此外，辐射阻挡区图形限定要被转移到集成电路基板上的图形。遮蔽元件阵列设置在第一与第二相对表面之间的透明基板内，其中遮蔽元件阵列的光透射特性与透明基板的相邻部分的不同。此外，穿过包含遮蔽元件阵列的透明基板部分的构图辐射的透射率大于近似20％。还公开了相关方法和系统。

主权项

1.一种用于利用构图辐射来构图集成电路器件的光掩模，该光掩模包括：具有第一和第二相对表面的透明基板；在透明基板的第一和/或第二表面的至少一个上的辐射阻挡区图形，辐射阻挡区图形限定要被转移到集成电路基板上的图形；和在第一与第二相对表面之间的透明基板内的遮蔽元件阵列，其中遮蔽元件阵列的光透射特性与透明基板的相邻部分的不同，且其中穿过包含遮蔽元件阵列的透明基板部分的构图辐射的透射率大于近似20％。