[发明专利]连续横向结晶装置和使用它结晶硅的方法有效
| 申请号： | 200410091702.1 | 申请日： | 2004-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN1637484A | 公开（公告）日： | 2005-07-13 |
| 发明（设计）人： | 郑允皓;金荣柱 | 申请（专利权）人： | LG.菲利浦LCD株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/133 | 分类号： | G02F1/133;G03F1/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明公开了一种连续横向结晶(SLS)装置和用它结晶硅的方法，其中用具有多个不同图案的掩模在基板上形成对准键，并且根据掩模与对准键之间的距离信息按平行于连接相邻对准键的虚线的方向进行结晶。所述SLS装置包括发射激光束的激光束发生器；具有多个区的掩模；移动其上承载的掩模的掩模工作台，使激光束穿过掩模的选择区；和基板工作台，移动其上承载的基板，改变穿过掩模的激光束照射的基板部分。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 横向 结晶 装置 使用 方法 | ||
【主权项】：
1、一种结晶装置，包括：激光束发生器；掩模，具有对准键区和结晶区；掩模工作台，掩模安装在掩模工作台上，移动掩模工作台使激光束穿过掩模的选择区；和基板工作台，用于移动基板，改变用穿过掩模的激光束照射到基板的位置。
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