[发明专利]记录介质衬底和具有有良好膜质量的无电镀膜的记录介质无效
| 申请号： | 200410091331.7 | 申请日： | 2004-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN1725302A | 公开（公告）日： | 2006-01-25 |
| 发明（设计）人： | 川野浩康;马田孝博;守部峰生 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/667 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵飞 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种记录介质衬底和具有有良好膜质量的无电镀膜的记录介质。记录介质衬底在其表面上具有用于形成无电镀膜的基础膜，或者具有这样的基础膜以及形成于其上的无电镀膜。基础膜包含合金，该合金含有选自Co和Cu的一种金属元素和具有比所述金属元素更大电离倾向的元素。例如，使用这样的记录介质衬底可以制造记录介质。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 衬底 具有 良好 质量 镀膜 | ||
【主权项】：
1.一种在其表面上具有基础膜的记录介质衬底，所述基础膜用于形成无电镀膜；其中，所述基础膜包含合金，所述合金含有选自Co和Cu的一种金属元素和具有比所述金属元素更大电离倾向的元素。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士通株式会社，未经富士通株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410091331.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
