[发明专利]用于旋涂抗反射涂层/硬掩膜材料的含硅组合物

摘要

特征在于存在带有悬吊生色团的含Si聚合物的抗反射组合物是光刻技术方法中可用的抗反射涂层/硬掩膜组合物。在使用旋涂应用技术加以运用时，这些组合物提供了优异的光学、机械和蚀刻选择性能。在用于设计基片支撑材料层(尤其是金属或半导体层)的光刻技术方法中，此组合物是特别适用的。

主权项

1、适于形成旋涂抗反射层的组合物，该组合物含有带有多个分布于聚合物上以与交联组分反应的反应活性部位和生色团的硅聚合物和交联组分，其中所述的硅聚合物在主链或侧基上含有Si-(Si)n片段，其中n是1-15的整数，并且Si-(Si)n片段代表直链的、支链的、或环状的硅烷、或其任意结合。