[发明专利]半导体器件及其制造方法无效
申请号: | 200410079861.X | 申请日: | 2004-09-23 |
公开(公告)号: | CN1601754A | 公开(公告)日: | 2005-03-30 |
发明(设计)人: | 丰田泰之;曾根高真一 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
主分类号: | H01L29/72 | 分类号: | H01L29/72;H01L21/331 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种半导体器件,具有低电阻的N型半导体基板(101)、形成在该N型半导体基板(101)上的N型的并且电阻比半导体基板(101)高的集电层(102)、与该集电层(102)具有接合面的P型的本征基区(104)、与该本征基区(104)具有接合面的N型的发射区(105),其中,本征基区(104)的沿其周围,被从集电层(102)到达N型半导体基板(101)的绝缘槽(103)覆盖。根据本发明,即使电源电压变动,半导体器件中的集极基极间的反馈电容也不变化。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,其特征在于,具有:第1导电型的半导体基板;集电层,形成在所述半导体基板上、由第1导电型并且电阻高于所述半导体基板的第1半导体构成;本征基区,由与所述集电层具有接合面并且是第2导电型的第2半导体构成;发射区,由与所述本征基区具有接合面并且是第1导电型的第3半导体构成,所述本征基区的周围,被从所述集电层达到所述半导体基板的绝缘区覆盖。
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