[发明专利]一种快速软恢复SiGe/Si异质结功率开关二极管无效

专利信息
申请号: 200410073109.4 申请日: 2004-09-23
公开(公告)号: CN1588646A 公开(公告)日: 2005-03-02
发明(设计)人: 高勇;马丽;祁慧 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 代理人: 李郑建
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种快速软恢复SiGe/Si异质结功率开关二极管,由阳极p+(SiGe)区、n区及阴极区构成;阳极p+区为应变SiGe材料,其它各区均为Si材料;n区分为多层渐变掺杂,掺杂浓度从阳极边界至阴极边界由低至高渐变;阴极区为交替的p+、n+结构,在反向关断时多数载流子和少数载流子均能通过界面,使阴极区具有理想欧姆接触的特性。本发明在通态压降与反向阻断电压没有明显变化的前提下,提高了功率开关二极管的开关速度,反向恢复时间只有常规p+(SiGe)-n-n+二极管的三分之一;反向峰值电流也降低了二分之一;反向恢复软度因子S提高了近2倍;漏电流下降了约1-2个数量级,并使器件的工作温度容差变大。该器件的制作工艺与常规硅工艺兼容,很容易集成于功率IC中。
搜索关键词: 一种 快速 恢复 sige si 异质结 功率 开关二极管
【主权项】:
1.一种快速软恢复SiGe/Si异质结功率开关二极管,由阳极p+(SiGe)区、n-区及阴极区构成;其特征是阳极p+区为应变SiGe材料,其它各区均为Si材料;n-区为多层渐变掺杂;阴极区为交替的p+、n+结构。
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