[发明专利]场发射显示器的闸极网罩制作方法无效

专利信息
申请号: 200410070868.5 申请日: 2004-07-23
公开(公告)号: CN1725912A 公开(公告)日: 2006-01-25
发明(设计)人: 许瑞庭;吴家宏;张普欣;陈士勋;萧世坚 申请(专利权)人: 东元奈米应材股份有限公司
主分类号: H05B33/10 分类号: H05B33/10;H05B33/02
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 代理人: 余朦;方挺
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种场发射显示器的闸极网罩制作方法,适用于四极场发射显示器上。该制作方法为:先形成一聚焦金属网罩,并在聚焦金属网罩上形成有多个孔隙,再在该聚焦金属网罩表面涂布低黏度的水溶性高分子溶液,以形成一黏滞接口,再经过第一次低温简易干燥过程,使该黏滞接口成膜干燥,待黏滞接口成膜干燥后,再以一种网印制程在黏滞接口表面上涂布绝缘材料,形成一均匀的绝缘层后,可以利用第二次低温干燥程序使表面成膜干燥,再利用烧结制程,有效完全地去除黏滞接口,并可将绝缘层涂料结晶在该聚焦金属网罩上,利于后续闸极电极层制作。
搜索关键词: 发射 显示器 网罩 制作方法
【主权项】:
1.一种场发射显示器的闸极网罩制作方法,适用于四极场发射显示器上,其特征在于,所述方法包括:a)先形成一聚焦金属网罩,并在所述聚焦金属网罩上形成有多个孔隙;b)待所述聚焦金属网罩制作完成后,在所述聚焦金属网罩表面涂布低黏度的水溶性高分子溶液,形成一黏滞接口;c)待所述黏滞接口制作完成后,再经过第一次低温简易干燥过程,使所述黏滞接口成膜干燥;d)待所述黏滞接口成膜干燥后,再采用一种网印制程将绝缘材料涂布在所述黏滞接口的表面,形成一均匀的绝缘层;e)待所述绝缘层涂覆后,可以利用第二次低温干燥程序使表面成膜干燥,再利用烧结制程,有效完全地去除所述黏滞接口,并将所述绝缘层涂料结晶在所述聚焦金属网罩上。
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