[发明专利]一种分子印迹聚合物的制备方法无效
| 申请号： | 200410069112.9 | 申请日： | 2004-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN1718593A | 公开（公告）日： | 2006-01-11 |
| 发明（设计）人： | 赵睿;陈志勇;刘祥军;刘国诠 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | C08F2/44 | 分类号： | C08F2/44;C08F20/02;C08F2/46 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周长兴 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种分子印迹聚合物的制备方法，将0.5－5.0份的模板分子溶于20－200份氯仿中，然后加入一种或二至六种单体混合物0.5－50.0份，以及12.5－75份的交联剂甲基丙烯酸乙二醇双酯(EDMA)，通入氮气，于冰浴中，真空状态下置于辐射场内完成单体辐射和本体聚合。辐射源是距离调节辐射强度。在不同辐照强度下聚合1－10小时，辐照总剂量为0.7－7.0kGy，可得棒型刚性聚合物。本发明的制备方法简单可靠，得到的分子印迹聚合物具有较强的分子识别特性，用于外消旋体的手性拆分能力要优于常规方法制备的MIP，具有很强的应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 分子 印迹 聚合物 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种分子印迹聚合物的制备方法：将0.5-5.0份的印迹分子溶于20-200份氯仿中，然后加入一种以上功能单体0.5-50.0份，以及12.5-75份的交联剂，通入氮气，于冰浴中，真空状态置于辐射源的辐照场内，辐照总剂量为0.7-7.0kGy，聚合反应1-10小时，完成单体辐射和本体聚合；所述功能单体是甲基丙烯酸、甲基丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯、4-乙烯吡啶和丙烯酰胺；所述交联剂为双官能团或多官能团烯类单体。
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