[发明专利]铝电解电容器用低压阳极箔的表面纳米布孔方法有效
申请号: | 200410064340.7 | 申请日: | 2004-08-20 |
公开(公告)号: | CN1598985A | 公开(公告)日: | 2005-03-23 |
发明(设计)人: | 林昌健;宋延华;孙岚;谭帼英;谭惠忠 | 申请(专利权)人: | 厦门大学;肇庆华锋电子铝箔有限公司 |
主分类号: | H01G9/055 | 分类号: | H01G9/055;H01G13/00 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 | 代理人: | 陈永秀;马应森 |
地址: | 361005福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 铝电解电容器用低压阳极箔的表面纳米布孔方法,涉及一种箔表面布孔方法,尤其是一种用于铝电解电容器的低压阳极箔表面纳米布孔的方法。铝光箔经表面清洗、电化学抛光,抛光液的组成为磷酸∶硫酸∶甘油=80~160∶0.1~1∶50~100,抛光后的铝箔置于磷酸溶液中,在20~120V电压下进行一次阳极氧化,然后用磷酸和铬酸的混合溶液一次除膜至表面露出铝基体;用与一次氧化相同的实验条件进行二次氧化和二次除膜。通过调节工艺参数,可以调整布孔孔洞密度和孔径,其中孔径大小可以在50~300nm之间变化,以适用于不同应用范围的低压箔。可实现低压阳极铝箔表面的高密度纳米级布孔,可大幅度提高低压阳极铝箔的体积比电容。 | ||
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【主权项】:
1.铝电解电容器用低压阳极箔的表面纳米布孔方法,其特征在于其步骤如下:1)清洗与电抛光:先将铝光箔表面进行常规除油、除氧化膜表面清洗,然后将铝光箔置于50~90℃的抛光液中,施加5~20V电压进行电化学抛光1~30min,抛光液按体积比的组成为磷酸∶硫酸∶甘油=80~160∶0.1~1∶50~100;2)一次氧化与除膜:将抛光后的铝箔置于1%~10%磷酸溶液中,在20~120V电压下进行一次阳极氧化,氧化时间3~30min,然后用5%~30%(wt)磷酸和1%~12%(wt)铬酸的混合溶液在30~80℃下除膜至表面露出铝基体为止;3)二次氧化与除膜:用与一次氧化相同的实验条件进行二次氧化和二次除膜,即将一次氧化与除膜后的铝箔再次置于1%~10%磷酸溶液中,在20~120V电压下进行二次阳极氧化,氧化时间3~30min,然后用5%~30%(wt)磷酸和1%~12%(wt)铬酸的混合溶液在30~80℃下除膜至表面露出铝基体为止。
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