[发明专利]液晶显示器像素结构及其制造方法以及液晶显示面板有效
申请号: | 200410063564.6 | 申请日: | 2004-07-12 |
公开(公告)号: | CN1721959A | 公开(公告)日: | 2006-01-18 |
发明(设计)人: | 黄茂村;施明宏 | 申请(专利权)人: | 广辉电子股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/136 | 分类号: | G02F1/136;G02F1/133;H01L29/786;H01L21/00;G03F7/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 蔡胜利 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及一种液晶显示器像素结构的制造方法,此方法包括在基板上形成透明导电层以及第一金属层,并图案化第一金属层以及透明导电层以定义出栅极图案与像素电极图案。接着在基板上方形成栅极绝缘层以及半导体层,并进行图案化制程以保留下栅极图案上方的栅极绝缘层以及半导体层,且移除像素电极图案的第一金属层。随后在基板上方形成一第二金属层,并图案化第二金属层以于保留下来的半导体层上形成源极图案与漏极图案。然后,在基板上方形成一黑色材料层,并图案化此黑色材料层以形成黑矩阵图案,并使像素电极图案的透明导电层暴露出来。本发明还涉及由此制造的液晶显示器像素结构以及包含所述像素结构的液晶显示面板。 | ||
搜索关键词: | 液晶显示器 像素 结构 及其 制造 方法 以及 液晶显示 面板 | ||
【主权项】:
1.一种液晶显示器像素结构的制造方法,包括:在一基板上依序形成一透明导电层以及一第一金属层;进行一第一道光罩制程,以图案化该第一金属层以及该透明导电层,而定义出一栅极图案以及一像素电极图案;在该基板上方依序形成一栅极绝缘层以及一半导体层,覆盖该栅极图案以及该像素电极图案;进行一第二道光罩制程,以保留下该栅极图案上方的该栅极绝缘层以及该半导体层,并且移除该像素电极图案的该第一金属层;在该基板上方形成一第二金属层;进行一第三道光罩制程,以图案化该第二金属层,而于保留下来的该半导体层上形成一源极图案与一漏极图案;在该基板上方形成一黑色材料层;以及进行一第四道光罩制程,以图案化该黑色材料层,以使该黑色材料层形成一黑矩阵图案,并使该像素电极图案的该透明导电层暴露出来。
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