[发明专利]利用光子晶体改善光掩膜分辨率的结构无效

专利信息
申请号: 200410057117.X 申请日: 2004-08-24
公开(公告)号: CN1740907A 公开(公告)日: 2006-03-01
发明(设计)人: 郑至成 申请(专利权)人: 盟图科技股份有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00;H01L21/00
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 白家驹
地址: 台湾省台北县新*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明为一种利用光子晶体改善光掩膜分辨率的结构,藉以改善光掩膜的分辨率,其包含一正折射率的透光层及一等效负折射率的透光层,其中等效负折射率的透光层为光子晶体的结构。本发明的特征在于,当光子晶体透光层的等效负折射率的绝对值大致等于正折射率的透光层的折射率时,将正折射率的透光层与光子晶体的透光层叠合则可以产生类似透镜的聚焦效果,且控制正折射率的透光层的厚度即可以将近场光收集并聚焦于焦点,应用于光掩膜时,可得一较佳的分辨率,而控制光子晶体的透光层的厚度则可以调整聚焦的距离。
搜索关键词: 利用 光子 晶体 改善 光掩膜 分辨率 结构
【主权项】:
1、一种利用光子晶体改善光掩膜分辨率的结构,藉以改善一光掩膜的分辨率,其包含一正折射率的透光层及一等效负折射率的透光层,其特征在于:所述正折射率的透光层与所述等效负折射率的透光层迭合在一起,应用于该光掩膜时,可得一较佳的分辨率。
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