[发明专利]利用光子晶体改善光掩膜分辨率的结构无效
申请号: | 200410057117.X | 申请日: | 2004-08-24 |
公开(公告)号: | CN1740907A | 公开(公告)日: | 2006-03-01 |
发明(设计)人: | 郑至成 | 申请(专利权)人: | 盟图科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;H01L21/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 白家驹 |
地址: | 台湾省台北县新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明为一种利用光子晶体改善光掩膜分辨率的结构,藉以改善光掩膜的分辨率,其包含一正折射率的透光层及一等效负折射率的透光层,其中等效负折射率的透光层为光子晶体的结构。本发明的特征在于,当光子晶体透光层的等效负折射率的绝对值大致等于正折射率的透光层的折射率时,将正折射率的透光层与光子晶体的透光层叠合则可以产生类似透镜的聚焦效果,且控制正折射率的透光层的厚度即可以将近场光收集并聚焦于焦点,应用于光掩膜时,可得一较佳的分辨率,而控制光子晶体的透光层的厚度则可以调整聚焦的距离。 | ||
搜索关键词: | 利用 光子 晶体 改善 光掩膜 分辨率 结构 | ||
【主权项】:
1、一种利用光子晶体改善光掩膜分辨率的结构,藉以改善一光掩膜的分辨率,其包含一正折射率的透光层及一等效负折射率的透光层,其特征在于:所述正折射率的透光层与所述等效负折射率的透光层迭合在一起,应用于该光掩膜时,可得一较佳的分辨率。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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