[发明专利]动态随机存取存储单元及其制造方法有效
申请号: | 200410055610.8 | 申请日: | 2004-07-30 |
公开(公告)号: | CN1599070A | 公开(公告)日: | 2005-03-23 |
发明(设计)人: | 王廷熏 | 申请(专利权)人: | 茂德科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108;H01L21/8242 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种动态随机存取存储单元,其包括配置在一基底上的半导体柱体、配置在半导体柱体下部的侧壁上的电容器以及配置在半导体柱体上部的侧壁上的垂直式晶体管。而垂直式晶体管包括第一掺杂区、第二掺杂区、栅极以与门绝缘层。而第一掺杂区位于半导体柱体的侧壁中且与电容器相连接,且第二掺杂区位在半导体柱体上部中。栅极则配置在第一掺杂区与第二掺杂区之间的半导体柱体侧壁上,而栅绝缘层配置在侧壁与栅极之间。 | ||
搜索关键词: | 动态 随机存取 存储 单元 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种动态随机存取存储单元,包括:一半导体柱体,配置于一基底上;一电容器,配置于该半导体柱体的下部的一侧壁上,且该电容器包括:一第一电极,配置于该半导体柱体的下部的该侧壁上;一介电层,覆盖于该半导体柱体的下部的该侧壁上;一第二电极,覆盖于该介电层上;以及一垂直式晶体管,配置于该半导体柱体的上部的该侧壁上,且该垂直式晶体管包括:一第一掺杂区,位于该半导体柱体的该侧壁中,并与该电容器的该第二电极相连接;一第二掺杂区,位于该半导体柱体顶部之中;一栅极,配置在该第一掺杂区与该第二掺杂区间的该侧壁上;以及一栅绝缘层,配置在该栅极与该侧壁间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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