[发明专利]制备含有三甲基甲硅烷基端基的甲基氢聚硅氧烷的方法有效
| 申请号： | 200410048981.3 | 申请日： | 2004-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN1712429A | 公开（公告）日： | 2005-12-28 |
| 发明（设计）人： | 扎比内·赫夫曼;吉塞拉·京特;霍尔格·瓦德维茨;米夏埃多·梅斯纳 | 申请（专利权）人： | 瓦克化学有限公司 |
| 主分类号： | C08G77/06 | 分类号： | C08G77/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 联邦德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 制备含有三甲基甲硅烷基端基的甲基氢聚硅氧烷的方法，其中，在第一步骤内，在密度低于0.9kg/l的水不溶性有机溶剂存在下，相对于每摩尔可水解氯，甲基二氯硅烷及三甲基氯硅烷与至多0.5摩尔水反应而产生部分水解产物及气态氯化氢，在第二步骤内，为除去仍存在的SiCl基团，用水处理所述部分水解产物，形成盐酸，以及在第三步骤内，将第一和/或第二步骤中所得到的易挥发的环型甲基氢硅氧烷分离出来，并全部或部分加以平衡而生成低挥发的、主要为直链型的甲基氢聚硅氧烷。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 含有 甲基 硅烷 基端基 氢聚硅氧烷 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备含有三甲基甲硅烷基端基的甲基氢聚硅氧烷的方法，其中，在第一步骤内，在密度低于0.9kg/l的水不溶性有机溶剂存在下，相对于每摩尔可水解氯，甲基二氯硅烷及三甲基氯硅烷与至多0.5摩尔水反应，产生部分水解产物及气态氯化氢，在第二步骤内，为除去仍存在的SiCl基团，用水处理所述部分水解产物，形成盐酸，以及在第三步骤内，将第一和/或第二步骤中得到的易挥发的环型甲基氢硅氧烷分离出来，并全部或部分加以平衡，生成低挥发的、主要为直链型的甲基氢聚硅氧烷。
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