[发明专利]等离子体监测方法、等离子体监测装置和等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 200410034708.5 申请日: 2004-04-26
公开(公告)号: CN1540323A 公开(公告)日: 2004-10-27
发明(设计)人: 松本直树;山泽阳平;輿水地盐;松土龙夫;濑川澄江 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: G01N23/00 分类号: G01N23/00;H05H1/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种即使在低电子密度条件或高压力条件下也可正确测定等离子体中的电子密度的等离子体监测方法。该等离子体电子密度测定装置在测定部54中具备矢量式的网络分析器68。由该网络分析器68测定复数表示的反射系数,取得其虚部的频率特性,并且测量控制部74读取复数反射系数的虚部零交叉点的谐振频率,根据谐振频率算出电子密度的测定值。
搜索关键词: 等离子体 监测 方法 装置 处理
【主权项】:
1.一种等离子体监测方法,其特征在于,具有如下工序:在存在于规定空间内的等离子体中或其附近设定的期望监测位置处配置天线探针的工序;由所述天线探针放射变频的电磁波,使之入射到所述等离子体的工序;接收从所述等离子体反射到所述天线探针的电磁波的工序;根据所述入射波与所述反射波测定复数表示的反射系数,并取得该复数反射系数的虚部的工序;扫描所述电磁波的频率,测定所述复数反射系数的虚部的值变为零的谐振频率的工序;和根据所述谐振频率的测定值,算出所述等离子体中的电子密度的工序。
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