[发明专利]光刻投影组件、装载锁闭装置和转移物体的方法有效
申请号: | 200410032685.4 | 申请日: | 2004-03-10 |
公开(公告)号: | CN1570761A | 公开(公告)日: | 2005-01-26 |
发明(设计)人: | A·J·H·克洛普;J·F·胡格坎普;J·C·J·A·乌格特斯;R·G·里维塞伊;J·H·G·弗兰斯森 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 肖春京 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 光刻投影组件,包括用于在第一环境和第二环境之间转移物体特别是基底的至少一个装载锁闭装置,第二环境优选具有比第一环境低的气压;包括处理室的物体处理器,在处理室中第二环境占优势;和包括投影室的光刻投影装置。所述处理室和投影室为了转移物体而相通。所述装载锁闭装置包括装载锁闭装置室;排气装置,用来将所述的装载锁闭装置室排气;和门装置,用于在排气过程中关闭所述装载锁闭装置室,和用于打开所述装载锁闭装置室以使物体进入所述装载锁闭装置室或从所述装载锁闭装置室移除物体。所述装载锁闭装置室设有至少两个彼此不同的物体支承位置。 | ||
搜索关键词: | 光刻 投影 组件 装载 装置 转移 物体 方法 | ||
【主权项】:
1.光刻投影组件,包括:用于在第一环境和第二环境之间转移物体特别是基底的至少一个装载锁闭装置;包括处理室的物体处理器,在处理室中第二环境占优势,所述物体处理器和所述装载锁闭装置被构造和布置成在它们之间转移物体,和包括投影室的光刻投影装置;其中所述处理室和投影室为了在它们之间转移物体而相通,且其中所述装载锁闭装置包括装载锁闭装置室,该装载室设有至少两个彼此不同的物体支承位置。
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