[发明专利]配线基板、电光学装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200410004856.2 申请日: 2004-02-06
公开(公告)号: CN1535078A 公开(公告)日: 2004-10-06
发明(设计)人: 青木幸司 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H05B33/00 分类号: H05B33/00;H05B33/12;H05B33/10;G09G3/30
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及配线基板、电光学装置及其制造方法。本发明减少凸起的左右非对称性。配线基板有基板(10)、设置在基板(10)上方用于区划多个区域的凸起(30)、并列地形成在凸起(30)与基板(10)之间的导电层(52)和第1及第2配线(54、62)。第1配线(54)形成在比第2配线(62)更接近基板(10)的位置上。使第1和第2配线(54、62)在宽度方向上偏移地进行配置。导电层(52)形成在比第2配线(62)更接近基板(10)的位置上。使导电层(52)和第2配线(62)在宽度方向上偏移地进行配置。使导电层(52)和第1配线(54)分别有在相反的宽度方向上从第2配线(62)露出的部分地进行配置。
搜索关键词: 配线基板 光学 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种配线基板,其特征在于:它具有基板、设置在基板上方,用于区划多个区域的凸起、和在上述凸起与上述基板之间形成的导电层和第1及第2配线,上述凸起包含上面和夹着上述上面的一对侧面,上述一对侧面对于上述基板倾斜对称的角度。
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