[发明专利]磁盘装置及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200380105032.8 申请日: 2003-11-28
公开(公告)号: CN1720571A 公开(公告)日: 2006-01-11
发明(设计)人: 青野暁史 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G11B5/39 分类号: G11B5/39;H01L43/08;H01L43/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 沙永生
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供具有高灵敏度的重放磁头的磁盘装置及其制造方法。作为重放磁头的磁阻效应元件,使用由反强磁性层、强磁性层、非磁性层、自由磁性层构成的旋转阀型的多层膜。在反强磁性层与强磁性层之间设置反强磁性反应层。反强磁性层用含氧的金属化合物形成。
搜索关键词: 磁盘 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种磁盘装置,它是具有磁阻效应元件的装置,其特征在于,被用于所述磁阻效应元件的磁阻效应膜是由反强磁性层(12)、强磁性层(14)、非磁性层(15)、自由磁性层(16)构成的旋转阀型的多层膜,在反强磁性层(12)与强磁性层(14)之间设置反强磁性反应层(13),所述反强磁性层(12)用含氧的金属化合物形成。
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