[发明专利]集成结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200380103323.3 申请日: 2003-11-07
公开(公告)号: CN1711210A 公开(公告)日: 2005-12-21
发明(设计)人: 伯恩哈德·波格;米歇尔·德斯庞特;厄特·德雷克斯勒;钱德里卡·普拉萨德;彼得·维蒂格;罗伊·余 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: B81C3/00 分类号: B81C3/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种垂直集成结构,该结构包括微机电系统(MEMS)和用于将信号传送至MEMS的芯片。MEMS具有锚定部分,锚定部分具有穿透其中的导体,MEMS通过锚定部分连接至衬底。芯片在垂直于衬底表面的方向上贴覆于MEMS衬底,从而形成芯片到MEMS的导电通路。芯片刻通过将导体与形成于芯片上的C4金属焊垫结合、或通过将导体与芯片上的金属柱头结合而贴覆。MEMS衬底可在被贴覆于芯片前减薄,或者可从MEMS下侧去除。暂时的承载板用于方便处理MEMS以及与芯片对准。
搜索关键词: 集成 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种用于制造集成结构的方法,该集成结构包括微机电系统(MEMS)和用于将信号传送至MEMS的芯片,该方法包括步骤:提供具有表面的MEMS衬底;形成所述MEMS以在其中提供锚定部分,所述MEMS在所述锚定部分处与所述MEMS衬底连接;形成从所述MEMS的锚定部分穿透所述MEMS衬底的导体;和在垂直于所述表面的方向上贴覆所述芯片于所述MEMS衬底,从而形成从所述芯片至所述MEMS的导电通路。
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