[发明专利]用于竖流型转盘式反应器的烷基挤出流有效
申请号: | 03826932.5 | 申请日: | 2003-08-20 |
公开(公告)号: | CN1849410A | 公开(公告)日: | 2006-10-18 |
发明(设计)人: | M·墨菲;R·霍夫曼;J·克鲁尔;L·凯丁斯基;J·C·拉马;E·阿穆尔 | 申请(专利权)人: | 维高仪器股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00;C23C16/06;C23C16/455;C30B25/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陈文青 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 在一个用于在基片(3)上生长外延层的转盘式反应器(1)中,在距离圆盘旋转轴不同径向距离的位置处流向基片的气体速度基本相同。流向远离轴的圆盘部分(10a)的气体中,反应气(4)的浓度高于流向靠近轴的圆盘部分(10d),使得距离轴(14)不同距离的基片表面部分每单位面积所接收反应气(4)的量基本相同。在反应器内达到了所需的流动式样,同时能够在基片上均匀地沉积和生长外延膜。 | ||
搜索关键词: | 用于 竖流型 转盘 反应器 烷基 挤出 | ||
【主权项】:
1.一种用于处理基片的反应器,该反应器包括:反应室;可移动安装在该反应室内的基片支架,从而可以将至少一个基片安装在基片支架上;与所述反应室相连的多个气体进口;一个或多个与所述进口相连的反应气源和一个或多个与至少一个所述进口相连的载气源,对所述气源和进口进行构建和设置,使得各进口向所述室内的基片支架导出气流,在这些被所述进口定向的气流中,所述反应气的浓度和质量流量不同,但是该气流的速度基本相同。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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