[发明专利]磁光记录介质和磁光记录装置无效
| 申请号： | 03826136.7 | 申请日： | 2003-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN1759443A | 公开（公告）日： | 2006-04-12 |
| 发明（设计）人： | 细川哲夫 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G11B11/105 | 分类号： | G11B11/105 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种磁光记录介质，在形成在基板上的光学相位坑上形成磁光记录薄膜，可以使相位坑信号和形成在其上的记录膜信号两者再生；当把形成在基板上的相位坑的光学深度设为X(λ)，把照射了偏振光方向的光束时的前述相位坑的调制度设为Y(％)时，其中，该偏振光方向为与前述磁光记录介质的轨道垂直的方向，满足以下条件：344X－8.12≥Y且Y≥286X－10.7，0.080≤X≤0.124且16≤Y≤30。这样，可以获得把MO信号和相位坑信号的抖动抑制为所期望的小于等于10％、且不发生裂纹、而重复记录特性也充分的磁光记录介质。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 装置 | ||
【主权项】：
1、一种磁光记录介质，在形成在基板上的光学相位坑上形成磁光记录薄膜，可以使光学相位坑信号和形成在其上的记录膜信号两者再生；其特征在于，被构成为：当把形成在基板上的相位坑的光学深度设为X(λ)，把照射了偏振光方向的光束时的前述相位坑的调制度设为Y(％)时，其中，该偏振光方向为与前述磁光记录介质的轨道垂直的方向，满足以下条件：344X-8.12≥Y且Y≥286X-10.70.080≤X≤0.124且16≤Y≤30。
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