[发明专利]等离子体辅助增强涂覆无效
| 申请号： | 03810270.6 | 申请日： | 2003-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN1653205A | 公开（公告）日： | 2005-08-10 |
| 发明（设计）人： | D·库马尔;S·库马尔 | 申请（专利权）人： | 达纳公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于激发、调节和维持等离子体(615)的用于涂覆物体(250)的方法和装置。在一个实施例中，涂覆物体(250)表面的方法包括：在等离子体催化剂(240)存在的情况下通过使气体受到电磁辐射在腔(230)中形成等离子体(615)，并通过使用例如激光器(500)激发该材料(510)，将至少一种涂覆材料(510)加入等离子体(615)中。允许该材料(510)沉积在物体(250)的表面上以形成涂层。本发明还提供了各种类型的等离子体(240)催化剂。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 辅助 增强 | ||
【主权项】：
1、一种涂覆物体第一表面区域的方法，该方法包括以下步骤：在等离子体催化剂存在的情况下，通过使气体受到大量电磁辐射，在第一腔内形成等离子体，其中所述腔在容器中形成；将至少一种涂覆材料安放在与所述等离子体分开并与之流体连通的位置；激发所述至少一种涂覆材料的一部分以使被激发的部分可以加入所述等离子体；以及允许所述至少一种材料沉积在所述物体的所述表面区域，以形成涂层。
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