[发明专利]在真空紫外下具有高透明度的耐辐射的有机化合物和其制备方法无效

专利信息
申请号: 03805296.2 申请日: 2003-03-06
公开(公告)号: CN1747917A 公开(公告)日: 2006-03-15
发明(设计)人: R·H·弗伦奇;D·J·琼斯;R·C·惠兰 申请(专利权)人: 纳幕尔杜邦公司
主分类号: C07C17/00 分类号: C07C17/00;G03F7/20;G03F1/14;G02B1/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 邹雪梅;段晓玲
地址: 美国特拉华*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及由于具有高透明度和优良的耐辐射性的优点而非常适合用于157纳米光刻的耐辐射的有机组合物,及其制备方法。
搜索关键词: 真空 紫外 具有 透明度 辐射 有机化合物 制备 方法
【主权项】:
1.一种有机组合物,其特征在于在140-260纳米波长下的吸光度/微米<1,所述组合物包括低于20ppm的水,低于90ppm的氧,和一种或多种选自如下所述的化合物:i)环状、直链或支链的具有2-10个碳原子的氢氟烃,其中氟比氢多,没有长于2个的相邻C-H键的片断(CH-CH),没有长于6个的相邻C-F键的片断(CF-CF-CF-CF-CF-CF),并且没有-CH2CH3基团;ii)X-Rfa[ORfb]nORfcY,其中X和Y可以是氢或者氟,Rfa、Rfb和Rfc是1-3个碳的直链或支链的氟烃基团,其中氟比氢多,不存在长于2个的相邻C-H键的片断,不存在-CH2CH3基团,并且不存在在醚氧的两侧均为氢的链区(CH-O-CH);iii)CnF2n-v+2Hv,其中n=2-10,v<n+1,氟的数目等于或超过氢的数目,不存在长于2个的相邻C-H键的片断,不存在长于6个的相邻C-F键的片断,且不存在CH2CH3基团;iv)CnF2n+1CFHCFHCmF2m+1,其中n等于1-4;m等于1-4;v)CF3CH2CF2CH3;vi)F[CF(CF3)CF2O]nCFHCF3,其中n=1-5;vii)F[CF(CF3)CF2O]nCF2CF3,其中n=1-5;viii)HCF2(OCF2)n(OCF2CF2)mOCF2H,其中n+m=1-8;和,ix)环状、直链或支链的全氟烃和氢氟烃胺和醚-胺,其中氟比氢多,没有长于2个的氢片断(CH-CH),不存在-CH2CH3基团,没有长于6个的相邻C-F键的片断(CF-CF-CF-CF-CF-CF),且没有C-H键直接与氮或者氧相邻。
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