[发明专利]IC片的生产方法无效
申请号: | 03800232.9 | 申请日: | 2003-01-15 |
公开(公告)号: | CN1507651A | 公开(公告)日: | 2004-06-23 |
发明(设计)人: | 福冈正辉;大山康彦;畠井宗宏;林聪史;檀上滋;北村政彦;矢嵨兴一 | 申请(专利权)人: | 积水化学工业株式会社;株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/301 | 分类号: | H01L21/301;H01L21/304 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 陈长会 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供一种IC片的生产方法,其中,可以防止晶片受损,能够改善处理晶片的容易程度,因此,即使晶片的厚度极度降低至约50μm,也能够适当地将晶片加工成IC片。本发明提供一种IC片的生产方法,其至少包括:用支撑胶带将晶片固定在支撑板上的步骤,支撑胶带具有包括含由于刺激而生成气体的气体发生剂的粘结剂(A)的表面层和包括粘结剂(B)的表面层;用所述支撑胶带将所述晶片固定在所述支撑板上的时候将所述晶片抛光的步骤;将切块胶带粘结在所述抛光晶片上的步骤;为所述粘结剂(A)层提供所述刺激的步骤;将所述支撑胶带从所述晶片上除去的步骤;将所述晶片切块的步骤,在用所述支撑胶带将所述晶片固定在所述支撑板上的步骤中包括将所述包括粘结剂(A)的表面层粘结在所述晶片上和将所述包括粘结剂(B)的表面层粘结在所述支撑板上,在负压下从其切块胶带侧均匀抽吸整个所述晶片的同时提供所述刺激,然后在为所述粘结剂(A)层提供刺激的步骤中和在将所述支撑胶带从所述晶片上除去的步骤中,将所述支撑胶带从所述晶片上除去。 | ||
搜索关键词: | ic 生产 方法 | ||
【主权项】:
1、一种IC片的生产方法,其至少包括:用支撑胶带将晶片固定在支撑板上的步骤,支撑胶带具有包括含由于刺激而生成气体的气体发生剂的粘结剂(A)的表面层和包括粘结剂(B)的表面层;用所述支撑胶带将所述晶片固定在所述支撑板上的时候将所述晶片抛光的步骤;将切块胶带粘结在所述抛光晶片上的步骤;为所述粘结剂(A)层提供所述刺激的步骤;将所述支撑胶带从所述晶片上除去的步骤;和将所述晶片切块的步骤,其在用所述支撑胶带将所述晶片固定在所述支撑板上的步骤中包括将所述包括粘结剂(A)的表面层粘结在所述晶片上和将所述包括粘结剂(B)的表面层粘结在所述支撑板上,在负压下从其切块胶带侧均匀抽吸整个所述晶片的同时提供所述刺激,然后在为所述粘结剂(A)层提供刺激的步骤中和在将所述支撑胶带从所述晶片上除去的步骤中,将所述支撑胶带从所述晶片上除去。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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