[实用新型]一种全金属光栅无效
| 申请号： | 03265195.3 | 申请日： | 2003-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN2665725Y | 公开（公告）日： | 2004-12-22 |
| 发明（设计）人： | 伊福廷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院高能物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 中国航天科工集团公司专利中心 | 代理人： | 岳洁菱;许可英 |
| 地址： | 100039北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型是一种全金属光栅，包括图形区和非图形区，图形区的图形为矩形、梯形、扇形或其中任意两种相同图形组合。图形区厚度为4－20微米，图形宽4－200微米，非图形区包括过渡区和厚度加强区，厚度加强区厚度50－200微米。该实用新型全金属光栅的优点为高分辨率、高机械强度和平整度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 全金属 光栅 | ||
【主权项】：
1.一种全金属主光栅是由一块完整的矩形材料制成，光栅分图形区(1)和非图形区(2)；其特征在于光栅的图形区(1)处在矩形的中间部位，由主计量光栅(1a)和零位窗口(1b)组成；图形为矩形或矩形组合，图形宽度4-200微米，厚度2-40微米；非图形区2处在图形区1以外区域，由过渡区2a和厚度加强区2b组成，图形形状没有限制，厚度50-200微米；过渡区厚度2a与图形区1厚度相同2-40微米；主光栅面积为1-300cm2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院高能物理研究所，未经中国科学院高能物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/03265195.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于硅微电容传声器中的芯片
- 下一篇：测量喇曼散射用波分复用器
